PECVD
PECVD PECVD（等离子体 Enhanced Chemical Vapor Deposition）是指等离子体增强化学气相沉积法，是利用气体放电产生的等离子体作用使参与反应的低分子气态化合物电离、离解或激发，通过气相与界面化学反应后在衬底上沉积薄膜的制备方法。PECVD通常在非平衡态等离子体中进行，主要作用机理是利用非平衡态等离子体中高的电子温度、低的重粒子温度和离子温度，以及高的粒子化学活
2025年9月23日
mysmile